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      • 還不會使用皮可安培計的,請看這兒! 2022-07-25

        皮可安培計又被人們稱為電流表,它主要的目的就是為了測量電流,安培計的類型也有很多種,比如有轉動線圈式、熱偶式和轉動鐵片式等等。安培計是用來測量電路中電流大小的儀器,學會正確的使用安培計對以后電路的學習和研究具有很重要的意義。下面小編給大家介紹一下安培計的使用方法。皮可安培計如何使用?1、接表:安培計必須串聯在待測電路中,使電流從安培計的“+”接線柱流入,從“-”接線柱流出。使用安培計的時候,它的兩個接線柱千萬不能直接接到電源的兩...

      • 淺析球磨測厚儀的測厚原理 2022-06-13

        球磨測厚儀采用的高性能、低功耗微處理器技術,基于超聲波測量原理,可以測量金屬及其它多種材料的厚度,并可以對材料的聲速進行測量??梢詫ιa設備中各種管道和壓力容器進行監測,監測它們在使用過程中受腐蝕后的減薄程度,也可以對各種板材和各種加工零件作測量。球磨測厚儀測厚原理:1、千分尺:千分尺應該能夠近測量5um。應該安裝一個棘齒,以便限制主軸上的力施加在試驗表面上。帶有平面測量面的千分尺頭被夾在帶有平坦的基板的堅固架子上,架子的高度應可以調整。測量面應和基板的頂部平行對齊。2、度盤...

      • 多功能磁控濺射儀的工作原理及特點介紹 2022-05-11

        多功能磁控濺射儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。原理:磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞,使其電離產生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子...

      • 狹縫擠出式涂布機沉積速率高,試驗周期短 2022-04-14

        狹縫擠出式涂布機是一種利用激光對物體進行轟擊,然后將轟擊出來的物質沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段。歷史背景:早于1916年,愛因斯坦(AlbertEinstein)已提出受激發射作用的假設??墒?,首部以紅寶石棒為產生激光媒介的激光器,卻要到1960年,才由梅曼(TheodoreH.Maiman)在休斯實驗研究所建造出來??偣蚕喔袅?4年。使用激光來熔化物料的歷史,要追溯到1962年,布里奇(Breech)與克羅斯(Cross)利用紅寶石激光器,汽化與激發固體表...

      • 狹縫擠出式涂布機可配置多種涂布模頭 2022-03-07

        狹縫擠出式涂布機應用于鋰電池正、負極極片涂布工藝,是一款應用狹縫擠出式涂布模頭對基材進行非接觸式涂布的一款設備。該設備通過配置slotdie狹縫擠壓涂布模頭、精密計量供料系統與進料閥體配合可實現連續涂布、條紋涂布、間歇涂布、網格涂布等涂布工藝。該設備也適用于對一些其它類型漿料及基材的涂布工藝。設備具有較高的涂布精度高,一致性和穩定性好,可應用于鋰離子電池、FCCL、光學薄膜、膠帶以及各種功能薄膜行業,適合實驗室或樣品線用于產品的工藝摸索。狹縫擠出式涂布機功能特點:1、slot...

      • 狹縫擠出式涂布機主要具有以下功能特點 2022-01-14

        狹縫擠出式涂布機應用于鋰電池正、負極極片涂布工藝,是一款應用狹縫擠出式涂布模頭對基材進行非接觸式涂布的一款設備。該設備通過配置slotdie狹縫擠壓涂布模頭、精密計量供料系統與進料閥體配合可實現連續涂布、條紋涂布、間歇涂布、網格涂布等涂布工藝。該設備也適用于對一些其它類型漿料及基材的涂布工藝。設備具有較高的涂布精度高,一致性和穩定性好,可應用于鋰離子電池、FCCL、光學薄膜、膠帶以及各種功能薄膜行業,適合實驗室或樣品線用于產品的工藝摸索。適用于有機太陽能電池OPV和鈣鈦礦太陽...

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