超高真空工作配件-科睿設備有限公司

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超高真空工作配件低溫等離子體源半導體輔助設備光刻機及勻膠機系統脈沖激光外延制備系統厚度輪廓測試系統探針臺快速退火爐原子層沉積系統薄膜半導體制備系統材料表征測量系統納米微米壓痕劃痕測試儀摩擦計開爾文測試儀（功函數測試激光脈沖沉積（PLD）飛行時間離子質譜儀電子半導體耗材便攜式霧化器，光度計

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熱舟蒸發源
熱舟蒸發源應用范圍：薄層沉積；光學涂覆；混合層沉積；金屬電極接觸。

更新時間：2018-12-11型號：

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俄歇電子能量譜
俄歇電子能量譜是一種利用高能電子束為激發源的表面分析技術. AES分析區域受激原子發射出具有元素特征的俄歇電子。俄歇電子在固體中運行也同樣要經歷頻繁的非彈性散射，

更新時間：2018-12-11型號：

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等離子體原子/離子源
等離子體原子/離子源產生感應耦合等離子體,包括氮氣,氧氣和氫氣等分子氣體。使用1個射頻線圈（頻率13.56MHz）,能量將轉化為等離子體，這會產生僅具有低離子能量的”軟”等離子體。我司提供的這款電子束蒸發源是由高質量，完全與高真空兼容材料構成，并且可以烘烤至250℃。

更新時間：2018-12-11型號：

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半球型電子能量分析譜
半球型電子能量分析譜¨ 大型高透射半球形電子能量分析譜--120mm半徑. ¨ 全程180度反轉角度. ¨ 邊緣界線區域校正--使用Jost電極.

更新時間：2018-12-11型號：

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電子束蒸發源
電子束蒸發源對于使用常用熱蒸發技術非常難蒸發的材料,電子束蒸發是一種有效的蒸發手段.通過高能電子束射向靶材來升高靶材溫度.相比于通常輻射或間接電阻加熱方式,使用這種方式來達到溫度沒有本質的限制。

更新時間：2018-12-11型號：

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磁控濺射靶源
磁控濺射靶源我司提供的磁控濺射源是目前一和超高真空系統（1e-11torr）匹配的商業用濺射源。在不配置彈性墊圈的結構中，可烘烤至250℃。在匹配的超高真空環境下，可以實現超高純度的濺射沉積。

更新時間：2018-12-11型號：

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IG2離子源
IG2離子源典型應用是氬離子濺射清洗表面（中科院物理所配置多套IG2型離子源）濺射清洗 /表面準備，用于表面科學， MBE ，高真空濺射過程離子輔助沉積離子束濺射鍍膜反應離子刻蝕

更新時間：2019-02-26型號：

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真空腔體水氣解吸附組件
真空腔體水氣解吸附組件 Zcuve是近年來上較多使用的水蒸氣解吸技術。*的設計可從2.75“擴展到8”法蘭尺寸，具有比例較高的紫外線功率因數

更新時間：2019-02-26型號：

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