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      • 熱舟蒸發源
        熱舟蒸發源

        熱舟蒸發源應用范圍: 薄層沉積; 光學涂覆; 混合層沉積; 金屬電極接觸。

        更新時間:2018-12-11型號:
      • 俄歇電子能量譜
        俄歇電子能量譜

        俄歇電子能量譜是一種利用高能電子束為激發源的表面分析技術. AES分析區域受激原子發射出具有元素特征的俄歇電子。俄歇電子在固體中運行也同樣要經歷頻繁的非彈性散射,

        更新時間:2018-12-11型號:
      • 等離子體原子/離子源
        等離子體原子/離子源

        等離子體原子/離子源產生感應耦合等離子體,包括氮氣,氧氣和氫氣等分子氣體。使用1個射頻線圈(頻率13.56MHz),能量將轉化為等離子體,這會產生僅具有低離子能量的”軟”等離子體。 我司提供的這款電子束蒸發源是由高質量,完全與高真空兼容材料構成,并且可以烘烤至250℃。

        更新時間:2018-12-11型號:
      • 半球型電子能量分析譜
        半球型電子能量分析譜

        半球型電子能量分析譜¨ 大型高透射半球形電子能量分析譜--120mm半徑. ¨ 全程180度反轉角度. ¨ 邊緣界線區域校正--使用Jost電極.

        更新時間:2018-12-11型號:
      • 電子束蒸發源
        電子束蒸發源

        電子束蒸發源對于使用常用熱蒸發技術非常難蒸發的材料,電子束蒸發是一種有效的蒸發手段.通過高能電子束射向靶材來升高靶材溫度.相比于通常輻射或間接電阻加熱方式,使用這種方式來達到溫度沒有本質的限制。

        更新時間:2018-12-11型號:
      • 磁控濺射靶源
        磁控濺射靶源

        磁控濺射靶源 我司提供的磁控濺射源是目前一和超高真空系統(1e-11torr)匹配的商業用濺射源。 在不配置彈性墊圈的結構中,可烘烤至250℃。在匹配的超高真空環境下,可以實現超高純度的濺射沉積。

        更新時間:2018-12-11型號:
      • IG2離子源
        IG2離子源

        IG2離子源典型應用是氬離子濺射清洗表面(中科院物理所配置多套IG2型離子源) 濺射清洗 /表面準備,用于表面科學, MBE ,高真空濺射過程 離子輔助沉積 離子束濺射鍍膜 反應離子刻蝕

        更新時間:2019-02-26型號:
      • 真空腔體水氣解吸附組件
        真空腔體水氣解吸附組件

        真空腔體水氣解吸附組件 Zcuve是近年來上較多使用的水蒸氣解吸技術。*的設計可從2.75“擴展到8”法蘭尺寸,具有比例較高的紫外線功率因數

        更新時間:2019-02-26型號:
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