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      • 多功能磁控濺射儀(濺射、熱蒸發、電子束蒸發)
        多功能磁控濺射儀(濺射、熱蒸發、電子束蒸發)

        多種薄膜沉積設備,PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控濺射、電子束蒸發、熱蒸發等。詳細介紹請登陸公司網頁。http://www.cross-tech.com.cn/

        更新時間:2017-08-24型號:
      • 磁控濺射鍍膜機
        磁控濺射鍍膜機

        磁控濺射鍍膜機具有射頻濺射,直流濺射,脈沖直流濺射;304不銹鋼圓柱形腔體,標準直徑有18英寸和24英寸,手動傳片或自動傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm大的圓片,高真空背景傳遞,可加熱,冷卻,偏壓,旋轉。

        更新時間:2021-12-23型號:
      • sputter coater多功能磁控濺射儀
        sputter coater多功能磁控濺射儀

        sputter coater多功能磁控濺射儀包含大多數的真空薄膜鍍層技術,電子束蒸發,濺射沉積。這樣我們在一臺設備上可以靈活運用多種膜生長技術,針對各種不同大小和形狀的樣品,非常方便切換沉積模式。

        更新時間:2021-12-23型號:
      • 狹縫擠出式涂布機
        狹縫擠出式涂布機

        狹縫擠出式涂布機粘度范圍:1-20000cps,應用襯底:玻璃, PET聚酯, 紙張,幅寬:90mm, 120mm, 300mm。

        更新時間:2021-12-23型號:
      • 微型磁控濺射
        微型磁控濺射

        這款來自美國的微型磁控濺射系統滿足研究所和研發部門對真空薄膜沉積的性能要求,占用空間小,具有超高的性價比,可以向客戶提供優質的服務。

        更新時間:2018-12-11型號:
      • 超高真空磁控濺射系統
        超高真空磁控濺射系統

        超高真空磁控濺射系統美國專業的制造商PVD公司是一家在磁控濺射沉積,電子束蒸發沉積,脈沖激光沉積等領域有著20年制造經驗。

        更新時間:2018-12-11型號:
      • E-Beam電子束蒸發鍍膜系統
        E-Beam電子束蒸發鍍膜系統

        E-Beam電子束蒸發鍍膜系統304不銹鋼圓柱形腔體,標準直徑有18英寸和24英寸,分子泵或冷凝泵;手動傳片或自動傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm大的圓片,高真空背景傳遞;PLC自動控制界面,菜單控制,數據獲取和遠程控制,QCM膜厚監控,光學膜厚監控。

        更新時間:2021-12-23型號:
      • 金屬有機化合物化學氣相沉積
        金屬有機化合物化學氣相沉積

        金屬有機化合物化學氣相沉積其反應器的設計可以根據工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產的需要。我們也能為客戶設計以滿足客戶特殊工藝和應用的需要。系統部件包括:反應器、氣體傳輸系統、電氣控制系統和尾氣處理系統.

        更新時間:2018-12-11型號:
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