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      有關磁控濺射鍍膜機的主要優勢介紹

      發布時間:2021-12-27      點擊次數:802
             磁控濺射鍍膜機是一種普適鍍膜機,用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系??慑兏鞣N硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜和其他化學反應膜,亦可鍍鐵磁材料。主要用于實驗室制備有機光電器件的金屬電極及介電層,以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。
        磁控濺射鍍膜機主要優勢:
        1、實用性:
        1.1、設備集成度高,結構緊湊,占地面積小,可以放置于實驗桌面上即可;
        1.2、通過更換設備上下法蘭可以實現磁控與蒸發功能的轉換,實現一機多用;
        2、方便性:
        2.1、設備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式,接線及安裝調試簡單,既保證了設備使用方便又保證了設備的整潔性;
        2.2、設備可將主機置于手套箱內,水、電、氣等通過4個KF40接口接到手套箱外,與手套箱的對接靈活方便;
        2.3、設備工作電壓為220V,整機功率小于2KW,對實驗室的供電要求低;
        3、穩定性:
        3.1、設備主要零部件采用進口或國內品牌,保證了設備的質量及穩定性;
        磁控濺射鍍膜機設備安裝條件:
        1、供電要求
        1.1、設備供電總功率≤2KW,220V,單相三線制(一火一零一地);
        1.2、插座距離設備尺寸≤2m;
        1.3、其它:如用戶選配冷卻循環水機或其它選購件,用戶自行準備增配件的供電要求,不在安裝條件范圍內;
        2、供水要求
        2.1、設備需水冷的部件有磁控靶、膜厚儀探頭(如選配膜厚控制系統);
        2.2、水壓0.2~0.4MPa,水溫10~25℃;
        3、安裝場地大小要求
        設備尺寸為:長×寬:L60cm×W60cm,建議安裝場地尺寸≥L60×W80cm。
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