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      有關脈沖激光沉積的發展歷程介紹

      發布時間:2021-12-22      點擊次數:795
             脈沖激光沉積也被稱為脈沖激光燒蝕,是一種利用激光對物體進行轟擊,然后將轟擊出來的物質沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段。
        發展歷程:
        脈沖激光沉積的發展與探究,處處受制。事實上,當時的激光科技還未成熟,可以得到的激光種類有限;輸出的激光既不穩定,重復頻率亦太低,使任何實際的膜生成過程均不能付諸實行。因此,PLD在薄膜制作的發展比其它技術落后。以分子束外延(MBE)為例,制造出來的薄膜質素就優良得多。
        往后十年,由于激光科技的急速發展,提升了PLD的競爭能力。與早前的紅寶石激光器相比,當時的激光有較高的重復頻率,使薄膜制作得以實現。隨后,可靠的電子Q開關激光(electronicQ-switcheslasers)面世,能夠產生極短的激光脈沖。因此,PLD能夠用來做到將靶一致蒸發,并沉積出化學計量薄膜。由于紫外線輻射,薄膜受吸收的深度較淺。之后發展出來的高效諧波激光器(harmonicgenerator)與激基分子激光器(excimer)甚至可產生出強烈的紫外線輻射。自此以后,以非熱能激光熔化靶物質變得極為有效。
        主要優點
        1.易獲得期望化學計量比的多組分薄膜,即具有良好的保成分性;
        2.沉積速率高,試驗周期短,襯底溫度要求低,制備的薄膜均勻;
        3.工藝參數任意調節,對靶材的種類沒有限制;
        4.發展潛力巨大,具有很大的兼容性;
        5.便于清潔處理,可以制備多種薄膜材料。
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